Kurzfassung: Hier ist ein schneller, informativer Blick darauf, wie hochwertiges Graphenoxid unter Verwendung des verbesserten Hummers-Verfahrens und der Sprühtrocknungstechnologie hergestellt wird. Entdecken Sie seine einzigartigen Eigenschaften, Anwendungen und Handhabungsvorsichtsmaßnahmen in dieser detaillierten Präsentation.
Zugehörige Produktmerkmale:
Hergestellt unter Verwendung der verbesserten Hummers-Methode für einen hohen Sauerstoffgehalt und Reinheit.
Niedertemperatur-Sprühtrocknung erhält die Aktivität und gewährleistet eine gute Wasserdispergierbarkeit.
Bräunlich gelbe oder bräunlich schwarze Farbe mit einer Dicke von 0,8 ~ 1,2 nm.
Die Partikelgröße liegt im Bereich von 1 ~ 10 μm mit einer Monoschichtrate von ≥ 99%.
Aschegehalt < 2 % und Schwefelgehalt ≤ 3 %, wodurch es hochrein ist.
Geeignet für die Großserienproduktion aufgrund seiner stabilen und effizienten Herstellungsmethode.
Kann in Superkondensatoren, Solarzellen und Halbleiterchips verwendet werden.
Benötigt sorgfältige Lagerung in versiegelten Behältern bei niedriger Temperatur, um die Qualität zu erhalten.
FAQ:
Wie ist die Herstellungsmethode für dieses Graphenoxid?
Dieses Graphenoxid wird unter Verwendung der verbesserten Hummers-Methode hergestellt, wodurch ein hoher Sauerstoffgehalt und Reinheit gewährleistet werden.
Wie sollte das Graphenoxid-Pulver gelagert werden?
In einem verschlossenen Behälter bei niedriger Temperatur, vor Licht geschützt und trocken lagern. Vermeiden Sie die Vermischung mit Reduktionsmitteln, Säuren oder brennbaren Stoffen.
Was sind die Hauptanwendungen dieses Graphenoxids?
Es wird in Superkondensatoren, Katalysatorträgern, Solarzellen, elektrochemischer Energiespeicherung, Brennstoffzellen, Halbleiterchips und Adsorptionsmaterialien verwendet.